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      VACUTEC 電離室 技術參數70 197

      更新時間:2021-06-30   點擊次數:1063次

      工業電離室 50 多年來,VacuTec Meßtechnik GmbH 一直在為工業應用生產高質量的電離室。這種類型的電離室主要用于橫向測量系統,作為輻射厚度、面積質量和密度測量應用的傳感器。這些測量基于透射或反向散射原理。用于工業應用的電離室具有結構堅固和線性工作范圍寬的優點。它們的特點是設計緊湊、穩定性高和使用壽命長。我們的腔室具有非常高的熱穩定性,由于其時間常數僅為幾毫秒,因此非常適合高速工藝。如果使用鎳鉻鋼箔,作為標準做法,光束入口窗口與高級鋼外殼精密焊接,從而確保腔室的良好密封性。鈦、鈹、鋁或塑料替代箔的真空密封連接是通過新的粘合技術實現的。使用氪氣、氙氣或氬氣的高純度氣體填充用于相應壓力水平的特定應用。 

      70 114 114 00 01 Xenon 20* no window - - 80 80 15 ... 80 70 116 116 00 02 Xenon 25* no window - - 109 233 15 ... 80 70 173 173 00 02 Krypton 3* Steel 25 54.1 117 90 15 ... 80 70 174 174 00 04 174 00 07 174 00 12 Xenon Xenon Xenon 3* 5* 1.95 Steel Steel Steel 25 50 15 54.1 54.1 54.1 117 117 117 81 92 92 15 ... 80 15 ... 80 15 ... 60 70 175 175 00 04 Argon 1.95 Mylar 50 43 117 81 15 ... 60 70 177 177 00 01 177 00 03 Argon Xenon 2.5* 2.5* Steel Steel 50 50 154 154 165 165 144 144 15 ... 80 15 ... 80 70 180 180 00 04 Xenon 3* Steel 25 54.1 117 92 15 ... 80 70 181 181 00 02 181 00 12 Xenon Xenon 5* 1.95 Steel Steel 50 15 54.1 54.1 117 117 92 92 15 ... 80 15 ... 60 70 191 191 00 08 191 00 10 Xenon Xenon 3* 4.5* Steel Steel 25 25 12.5 12.5 45 45 81 117 15 ... 80 15 ... 80 70 194 194 00 01 Argon 1.2 Aluminum 25 15 50 87 15 ... 60 70 195 195 00 01 195 00 12 195 00 13 195 00 02 195 00 05 195 00 06 195 00 07 195 00 08 195 00 14 Xenon Xenon Xenon Argon Argon Xenon Xenon Argon Argon 3* 2.7* 1.95 1.2 1.5 1.95 1.05 1.4 1.5 Steel Steel Steel Aluminum Aluminum Beryllium Beryllium Beryllium Mylar 25 25 25 25 50 125 125 125 50 38 38 38 24 24 24 24 24 24 77 77 77 77 77 77 77 77 77 129 129 129 129 129 129 129 129 133 15 ... 80 15 ... 80 15 ... 80 15 ... 60 15 ... 60 15 ... 80 15 ... 80 15 ... 80 15 ... 60 70 196 196 00 01 196 00 03 Xenon Argon 2.4* 1.1 Steel Beryllium 25 125 63.6 45.6 100 100 114 114 15 ... 80 15 ... 80 70 197 197 00 01/02 Xenon 4* Steel 25 45.6 89 101 15 ... 8工業電離室 50 多年來,VacuTec Meßtechnik GmbH 一直在為工業應用生產高質量的電離室。這種類型的電離室主要用于橫向測量系統,作為輻射厚度、面積質量和密度測量應用的傳感器。這些測量基于透射或反向散射原理。用于工業應用的電離室具有結構堅固和線性工作范圍寬的優點。它們的特點是設計緊湊、穩定性高和使用壽命長。我們的腔室具有非常高的熱穩定性,由于其時間常數僅為幾毫秒,因此非常適合高速工藝。如果使用鎳鉻鋼箔,作為標準做法,光束入口窗口與高級鋼外殼精密焊接,從而確保腔室的良好密封性。鈦、鈹、鋁或塑料替代箔的真空密封連接是通過新的粘合技術實現的。使用氪氣、氙氣或氬氣的高純度氣體填充用于相應壓力水平的特定應用。 配件 我們提供高質量的放大器系統,包括 腔室高壓電源作為附件。 他們 可以單獨使用,也可以組合在一個特殊的 住房。 定制解決方案 所有高質量電離室均根據客戶要求制造。 這 通過使用替代的窗膜(鋁、鈦、塑料、鈹)、填充氣體,基本類型可以適應個別測量任務 (氬氣、氪氣、氙氣)或氣壓 (受所用窗膜的限制 

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